Mục tiêu phún xạ tantalum

Tantalum (Ta) là kim loại chịu lửa rất quan trọng đối với kiến ​​trúc vi mạch trong ngành bán dẫn có tốc độ tăng trưởng cao. Mục tiêu Tantalum có độ tinh khiết cao được sử dụng để phun các lớp Tantalum cực nhỏ lên các tấm silicon, cho phép chế tạo chip logic bán dẫn thế hệ tiếp theo với kiến ​​trúc nút tiên tiến và hiệu suất cao hơn.

Tantalum được phân loại là kim loại chuyển tiếp trong bảng tuần hoàn và được coi là một trong những kim loại chịu lửa có khả năng chống ăn mòn cao nhất. Tantalum có điểm nóng chảy là 3.017 độ, mật độ 16,6 g/cc và áp suất hơi 10-4 Torr ở 2.590 độ. Nó có màu xanh xám kim loại và tương tự về mặt hóa học với niobi một cách đáng ngạc nhiên. Do tính chất không độc hại nên nó được sử dụng chủ yếu trong sản xuất mô cấy ghép phẫu thuật. Nó cũng được sử dụng làm tụ điện trong thiết bị điện tử và có thể được hợp kim với các kim loại khác để tăng thêm độ bền và độ bền. Tantalum, các hợp kim và hợp chất của nó được làm bay hơi trong chân không để tạo ra chất bán dẫn, lớp phủ quang học, phương tiện lưu trữ từ tính và lớp phủ chống mài mòn và ăn mòn.

Sản phẩm kim loại chất lượng hàng đầu

Thông số kỹ thuật tantali (Ta)

Được thành lập vào năm 2008, công ty đã phát triển qua nhiều năm để trở thành nhà sản xuất và cung cấp các sản phẩm kim loại hàng đầu phục vụ nhiều ngành công nghiệp. Công ty không ngừng đầu tư vào nghiên cứu và phát triển để nâng cao chất lượng và độ bền của sản phẩm. Công ty rất chú trọng đến sự hài lòng của khách hàng và được biết đến với việc cung cấp các sản phẩm chất lượng cao và dịch vụ khách hàng tuyệt vời. Ngày nay, công ty có sự hiện diện toàn cầu và phục vụ khách hàng ở các quốc gia trên toàn thế giới.

Chú phổ biến: mục tiêu phún xạ tantalum, nhà sản xuất, nhà cung cấp, nhà máy sản xuất mục tiêu phún xạ tantalum Trung Quốc